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    “中国芯”关键材料国产化

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    光刻胶及配套材料
    三甲硅烷基胺 （TSA）
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    三甲硅烷基胺 （TSA）
    • 中文名：三甲硅烷基胺
    • 英文名：Trisilylamine
    • CAS号：13862-16-3
    • 用途：通过流动化学气相沉积（FCVD）形成氧化硅
    • 纯度指标：99.65%
    • 规格：公斤级
    二异丙氨基硅烷 （DIPAS）
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    二异丙氨基硅烷 （DIPAS）
    • 中文名： 二异丙氨基硅烷
    • 英文名：Diisopropylaminosilane
    • CAS号：908831-34-5
    • 用途：形成晶种
    • 纯度指标：8N
    • 规格：公斤级
    三乙硅烷基胺 （TDSA）
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    三乙硅烷基胺 （TDSA）
    • 中文名：三乙硅烷基胺
    • 英文名：Trisdisilanylamine
    • CAS号：14635-45-1
    • 纯度：≥98.0%
    • 用途：通过化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）形成含硅薄膜
    • 规格：公斤级
    1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷 （TADS）
    1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷 （TADS）
    • 中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙硅烷
    • 英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
    • CAS号：2273763-87-2
    • 纯度：≥99.0%
    • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成高密度氧化硅
    • 规格：公斤级
    二异丙氨基乙硅烷 （DPDS）
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    二异丙氨基乙硅烷 （DPDS）
    • 中文名：二异丙氨基乙硅烷
    • 英文名：Diisopropylaminodisilane
    • CAS号：151625-25-1
    • 纯度：≥99.0%
    • 用途：通过气相沉积形成晶种层
    • 规格：公斤级
    1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷 （DCDADS）
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    1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷 （DCDADS）
    • 中文名：1，1-二氯-1-二异丙氨基乙硅烷
    • 英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
    • CAS号：2152681-89-3
    • 纯度：≥99.0%
    • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
    • 规格：公斤级
    五氯乙硅烷 （PCDS）
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    五氯乙硅烷 （PCDS）
    • 中文名：五氯乙硅烷
    • 英文名：Pentachlorodisilane
    • CAS号：31411-98-0
    • 纯度：≥99.0%
    • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
    • 规格：公斤级
    1，1，1-三氯乙硅烷 （3CDS）
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    1，1，1-三氯乙硅烷 （3CDS）
    • 中文名：1，1，1-三氯乙硅烷
    • 英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
    • CAS号：78228-96-3
    • 纯度：≥99.0%
    • 用途：通过等离子体加强原子层沉积（PEALD）形成氮化硅
    • 规格：公斤级
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